Activator150 SiC和GaN退火及石墨烯生长
发布时间：2024-04-07
centrotherm Activator 150 高温炉生产线专为硅-碳化合物（SiC）或镓-氮化合物（GaN） 设备的后植入烧结而设计开发。Activator 150 可用于多种类型炉体， 如研发炉和批量生产炉， 且处理灵活性高。centrotherm 的无金属加热装置的独特设计允许处理温度高达 1850 °C 同时缩短了工艺循环时间。由于占据空间小、购置成本低，所以 Activator 150 可实现生产具有成本效益。
•高活化率
•表面粗糙程度最小
•温度最高达 1850°C
•批量规模高达 50硅片（150mm）
•加热率最高达 150 K/min
•通过SiH4可实现硅“过压
- 上一篇：真空焊接炉 VLO HP
- 下一篇：Oxidator150-高温氧化炉