Oxidator150-高温氧化炉
发布时间：2024-04-07
Oxidator 150 高温炉由 centrotherm thermal solutions 设计开发，专门用于硅-碳化合物（SiC）的氧化处理。设备最高可承受 1400°C 的工艺温度，氧化工艺使用 O2、N2O、NO、NO2 或湿法氧化气体，灵活性和工艺质量极佳。
Oxidator 150 装有非金属加热装置和双真空，是当前市场上最安全的毒性气体氧化炉。
批量处理 2“、3“、100 mm 和 150 mm 硅片或任何其它组合
最高加热率可达 7.5 K/min
批量规模高达 50片硅片（150 mm）
工艺压力：850 mbar 至常压下
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